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鹽水浸泡試驗機

更新時間:2021-09-14

簡要描述:

鹽水(shui)浸泡(pao)試驗機由東(dong)莞市科迪儀器有限公(gong)司專業生產(供應)銷售,公(gong)司具(ju)(ju)有良好的(de)市場信譽,專業的(de)銷售和技術服務團隊(dui),憑著多年(nian)經驗,迎得了客戶的(de)歡迎,此款設備(bei)主(zhu)要(yao)針對(dui)刀(dao)具(ju)(ju)、刀(dao)叉、餐(can)具(ju)(ju)、家居(ju)、家具(ju)(ju)、五(wu)金制(zhi)品(pin)等產品(pin)的(de)浸泡(pao)試驗。

廠商性質:生產廠家點擊量:2664
品牌其他品牌產地類別國產
應用領域文體,建材,電子,紡織皮革,冶金

鹽水浸泡試驗機

型 號

KD - 60EA

儀器功能與特點(dian)

該儀器是(shi)檢測不銹鋼刀、叉(cha)、勺、餐具、廚具等金(jin)屬(shu)制品(pin)和(he)其它在金(jin)屬(shu)基材上無機涂層的(de)腐(fu)蝕性測試,可直接觀試驗產(chan)品(pin)的(de)測試情況(kuang),技術指標均滿足(zu)ISO EN 8442-2-1997、ISO 10289-1999、GB/T10834-2008等測試標準。是(shi)餐具、廚人、船舶生產(chan)企業*設備。

實驗空間

800×600×600(W×D×H)mm,內箱尺寸可定做。

外箱尺寸

具體以實(shi)物(wu)為準(zhun)

箱體材(cai)質

304不銹鋼材質(zhi)

加熱(re)器

U型鈦合金(jin)加熱(re)管,升溫速度(du)快,耐(nai)腐蝕性強。(自主訂(ding)制)

溶(rong)液補(bu)充系統

外置鹽(yan)水桶,采用304不銹鋼(gang)制作(zuo),方便實驗過(guo)程中補(bu)充鹽(yan)水溶液。

試樣架

槽內試(shi)樣架按需定做治具,具體依據客戶測(ce)試(shi)產品(pin)定做治具。

升降裝置

采用氣缸式(shi)升(sheng)降,氣缸升(sheng)降桿接觸實驗室部分我司經(jing)過特(te)殊防腐蝕處(chu)理(鐵弗(fu)龍噴涂),氣缸升(sheng)降式(shi)優于電動滑輪式(shi),滑輪通過鋼(gang)繩升(sheng)降,在(zai)實驗過程(cheng)中晃動嚴重,不平穩。

試驗條件

水(shui)溫(wen)范圍: RT-70℃(溫(wen)度可調)

溫度均勻度

±2.0℃

控制(zhi)系統

數位顯示時間控(kong)制器(qi)0.1s~9999hr        (日(ri)本歐姆龍 ) 3只

積(ji)時器0~9990hr                  ;       (意大利matcning) 1只

自動記數器0~9999次(ci)                    (日(ri)本歐姆龍) 1只(zhi)

氣壓(ya)表                                 (中國臺(tai)灣(wan)山耐(nai)斯)

繼電器     ;                            (日本歐姆(mu)龍) 1只

溫度控(kong)制器                  ;           (日本歐姆龍 ) 1只

安全保護裝置:

電路保護

漏電(dian)/斷路保護(hu),電(dian)路故(gu)障(zhang)時自(zi)動斷電(dian)源。

溫控保護(hu)

設備安裝(zhuang)(zhuang)一組獨立超溫(wen)保護(hu)(hu)器。當控制系統溫(wen)度(du)保護(hu)(hu)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)出現(xian)故障(zhang),工作室溫(wen)度(du)超出此(ci)保護(hu)(hu)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)所設定的溫(wen)度(du)時(shi),就(jiu)會發(fa)送報警提示。

低水位保護(hu)

低水位時(shi),自動切(qie)斷電源裝(zhuang)置,就會發送報(bao)警(jing)提示(shi)。

附(fu)件(jian)

試藥氯(lv)化納(NACL )                                10瓶(500克(ke)/瓶)

儀器操作說明(ming)書、保修卡          1份(fen)

電源

AC220V    單(dan)相50/60Hz ,15A

氣源

不低于(yu)4kg/cm2 ±0.02壓(ya)縮空氣

使用條(tiao)件

環境溫度5℃~35℃    濕度:< 90%R.H

場地要求(qiu)

備應水(shui)平放置于(yu)通風良(liang)好的試驗室(shi)內(nei),周圍應留有充足的空間供操(cao)作及(ji)維護之用

環境條件

設備現(xian)場周圍無(wu)(wu)強烈振動、無(wu)(wu)強電磁(ci)場干擾、無(wu)(wu)高濃度粉(fen)塵、無(wu)(wu)陽光直(zhi)接(jie)(jie)照射(she)或(huo)其它熱源直(zhi)接(jie)(jie)輻射(she)

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